2016-01-27 16:01
Advanced Energy, 세미콘코리아 2016에서 반도체와 박막공정 위한 고정밀 전력 및 제어 기술 선보일 예정
포트콜린스 콜로라도주--(뉴스와이어) 2016년 01월 27일 -- Advanced Energy Industries, Inc.(NasdaqGM:AEIS)가 세미콘코리아 2016에서 더욱 향상된 기술을 선보일 예정이다.

진열중인 RF전력발생기, 고전압발생기, 열처리 장치 중에서도 새롭고, 플로팅된, 양극의 고전압 발생기와 차세대 고속 고온계를 소개한다.

ULTRAVOLT® FLHV 시리즈 ESC (electrostatic chucks)의 강한 힘을 내는 고전압을 제공하고 진보된 제어기능과 모니터링뿐만 아니라 뛰어난 안정성과 신뢰성을 가진 플로팅된 (floating or isolated) 단극/양극 고전압 출력은 전체 시스템의 성능을 향상시킨다. HBLED 제조나 emerging III-V materials 제조에는 MOCVD 공정과 같은 증착 공정이 사용되는데, 이와 같은 고난이도의 공정에서 SEKIDENKO MXE G2 고온계를 이용하여 온도와 reflectance를 고속으로 측정할 수 있다.

Advanced Energy 사장 및 CEO인 유발 와서먼은 (Yuval Wasserman)은 “우리의 새로운 고전압 그리고 열관련 제품들은 AE가 우리의 모든 비즈니스 영역에서 어떻게 혁신을 지속하는지를 보여주는 좋은 예”라고 말했다.

그는 “AE는 오랫동안 반도체산업에서 이제는 ESC (electrostatic chucks) 산업에서도 고정밀 전력발생기의 표준을 제시해왔다”며 “HBLED 제조 과정에서 주로 사용되는 susceptor의 빠른 회전 속도와 같이 고속의 측정이 요구되는 공정에서 온도와 reflectance의 정확한 측정을 가능하게 한다”고 밝혔다.

Advanced Energy는 반도체와 박막공정기술을 위한 아래와 같은 모든 제품군을 진열할 예정이다.

*넓은 반도체 공정 범위를 가능케하고 3D, IC, VNAND 및 차세대 소자 구조에 유연성과 적응성을 제공하는 RF 발생기
*초청결 반도체 응용 분야에서 적합하도록 고안된 원격 플라즈마 소스를 이용하면 주요 플라즈마 기반 처리 공정에서 소자의 손상을 줄이고 처리량을 높이며 수율을 높일 수 있다.
*고전압 전원 공급 장치는 반도체 웨이퍼 제조를 지원하기 위한 에너지 밀도, 유연성 및 모듈성이 요구되는 응용 분야에서 완벽한 솔루션을 제공한다.
*구리, 알루미늄, 탄탈룸, 티타늄, 그리고 신소재를 위한 반도체 및 디스플레이 제조에 이용되는 PVD공정의 DC발생기
*생산성, 수율, 처리량 증대를 위한 정밀한 열 프로파일 및 고급 공정 제어 기능이 있는 고온계, 광섬유 온도계 및 SCR 사이리스터 전원 컨트롤러를 포함하는 열처리 장치

세미콘코리아는 27~29일까지 서울 삼성동 코엑스 전시회관에서 열린다. Advanced Energy의 주요 제품들은 A 홀 2712부스와 회사의 이벤트 웹페이지 http://www.advanced-energy.com/en/sck2016.html 를 통해 찾아볼 수 있다.

Advanced Energy 소개
Advanced Energy (나스닥:AEIS)는 박막공정과 대량생산 분야의 정밀한 전력발생 및 제어기술을 가진 글로벌리더다. dvanced Energy는 미국 콜로라도주 포트콜린스에 본사가 위치해 있으며, 세계 각지에 필요한 지원을 위해 각 지역별로 서비스 지사를 두고 있다.
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