<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><rss version="2.0"><channel><title><![CDATA[JSR Corporation 보도자료 - 뉴스와이어]]></title><link>https://www.newswire.co.kr/?md=A10&amp;act=article&amp;no=41182></link><description><![CDATA[JSR Corporation 보도자료 - 뉴스와이어 RSS 서비스]]></description><lastBuildDate>Tue, 28 Apr 2026 17:39:13 +0900</lastBuildDate><copyright>Copyright (c) 2004~2026 Korea Newswire All rights reserved</copyright><image><url><![CDATA[https://file.newswire.co.kr/data/upfile/company_img/2022/08/12_31017998_20220803134007_6766740307.jpg]]></url></image><language>ko-KR</language><item><title><![CDATA[Inpria Co-Developing Metal Oxide Resist with SK hynix to Reduce Complexity of Patterning for Next-Generation DRAM]]></title><link>https://www.newswire.co.kr/newsRead.php?no=949018</link><description><![CDATA[TOKYO--(Business Wire/Korea Newswire)--JSR Corporation announced today acceleration of its co-development with SK hynix Inc. to apply Inpria, a JSR company’s Extreme Ultraviolet (EUV) metal oxide resist (MOR) for manufacturing advanced DRAM chips. Inpria’s broadly-patented metal oxide photoresist platform for EUV enables customers to efficiently pattern advanced node device architect...]]></description><pubDate>Wed, 03 Aug 2022 14:20:00 +0900</pubDate></item><item><title><![CDATA[인프리아, 차세대 D램의 패터닝 복잡성 줄이기 위해 SK하이닉스와 금속산화물 레지스트 공동 개발]]></title><link>https://www.newswire.co.kr/newsRead.php?no=949019</link><description><![CDATA[도쿄--(Business Wire/뉴스와이어)--JSR코퍼레이션(JSR Corporation)이 첨단 D램칩 제조에 JSR 그룹사인 인프리아(Inpria)의 EUV(Extreme Ultraviolet) 금속산화물 레지스트(MOR)를 적용하기 위해 SK하이닉스와 공동 개발에 속도를 내고 있다고 2일 발표했다.  인프리아는 EUV용 금속산화물 포토레지스트에 대한 광범위한 특허를 보유하고 있으며 고객사가 첨단 노드 디바이스 아키텍처를 효율적으로 패터닝(pa...]]></description><pubDate>Wed, 03 Aug 2022 14:20:00 +0900</pubDate></item></channel></rss>