Asahi Kasei Corp. 보도자료 - 뉴스와이어

Asahi Kasei Corp. 보도자료

Asahi Kasei Corp. 보도자료

Sunfort™ dry film photoresist

Sunfort™ dry film photoresist: 2025년 5월 29일 17:13; Asahi Kasei Corp.

Micro-pattern of 7 µm thick TA Series formed by LDI; (a) Resist pattern (L/S = 1.0/3.0 µm; L/S = Lin

Micro-pattern of 7 µm thick TA Series formed by LDI; (a) Resist pattern (L/S = 1.0/3.0 µm; L/S = Line / Space in micro-wiring [µm]) front side; (b) Resist pattern (L/S = 1.0/3.0 µm) oblique; (c) Pattern cross section after resist stripping (Plating l: 2025년 5월 29일 17:13; Asahi Kasei Corp.

아사히 카세이, 실리콘 고함량 리튬이온 배터리의 에너지 밀도 향상 및 비용 절감 위한 새로운 리튬 프리도핑 기술 개발

아사히 카세이, 실리콘 고함량 리튬이온 배터리의 에너지 밀도 향상 및 비용 절감 위한 새로운 리튬 프리도핑 기술 개발: 8월 20일 15:25; Asahi Kasei Corp.

아사히 카세이, 실리콘 고함량 리튬이온 배터리의 에너지 밀도 향상 및 비용 절감 위한 새로운 리튬 프리도핑 기술 개발

아사히 카세이, 실리콘 고함량 리튬이온 배터리의 에너지 밀도 향상 및 비용 절감 위한 새로운 리튬 프리도핑 기술 개발: 8월 20일 15:25; Asahi Kasei Corp.

아사히 카세이, 실리콘 고함량 리튬이온 배터리의 에너지 밀도 향상 및 비용 절감 위한 새로운 리튬 프리도핑 기술 개발

아사히 카세이, 실리콘 고함량 리튬이온 배터리의 에너지 밀도 향상 및 비용 절감 위한 새로운 리튬 프리도핑 기술 개발: 8월 20일 15:25; Asahi Kasei Corp.

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