ACM 리서치, 첨단 반도체 제조용 Ultra C wb 습식 벤치 세정 장비의 주요 업그레이드 발표

ACM의 특허 출원 중인 질소 버블링 기법으로 습식 식각 균일성 개선 및 향상된 클리닝 성능 제공

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2025-08-05 11:15

서울--(뉴스와이어)--반도체 및 첨단 웨이퍼 레벨 패키징(WLP) 애플리케이션을 위한 웨이퍼와 패널 처리 솔루션 선도 기업인 ACM 리서치(ACM Research, Inc., 나스닥: ACMR)는 ‘Ultra C wb’ 세정 장비에 대한 주요 업그레이드를 발표했다. 새로운 개선 사항은 첨단 노드 제조 공정의 엄격한 기술적 요구사항을 충족하도록 설계됐다.

업그레이드된 Ultra C wb는 특허 출원 중인 ACM의 질소(N2) 버블링 기법을 통해 습식 식각(wet etching)의 균일성 저하 및 부산물 재증식 문제를 해결한다. 이들 문제는 첨단 노드 공정에서 높은 종횡비 트렌치 및 비아 구조에서 인산(phosphoric acid)을 사용하는 기존의 습식 벤치 공정에서 자주 발생한다. 질소 버블링 기법은 인산의 전달 효율을 향상시키고 습식 식각조 내의 온도, 농도, 유속의 균일성을 높인다. 습식 식각 공정의 향상된 질량 전달 효율은 웨이퍼 미세 구조 내 부산물 축적을 방지해 재증식을 막는다.

ACM의 회장 겸 최고경영자(CEO)인 데이비드 왕(David Wang) 박사는 “성능을 최우선으로 고려해 ACM은 질소 버블링 기법을 통합해 Ultra C wb 장비를 개선함으로써 보다 향상된 결과를 제공하도록 했다”고 밝히고 “배치 처리(batch processing)는 습식 공정 분야에서 비용 효율성, 향상된 효율, 그리고 단일 웨이퍼 습식 세정에 비해 화학물질 사용 저감 등의 다양한 이점을 제공하는 중요한 요소”라고 말했다.

업그레이드된 Ultra C wb는 중국 본토의 주요 팹에서 공정 검증을 통과했으며, 여러 차례 재구매 주문을 받았다. 현재 여러 고객사가 해당 장비를 평가 중이며, 올해 말까지 장비들을 추가로 공급하게 될 것으로 예상된다.

업그레이드된 Ultra C wb 장비의 신규 기능 및 이점:

· 향상된 식각 균일성: 기존의 배치 공정과 비교해 Ultra C wb 플랫폼은 질소 버블링 기법을 적용해 웨이퍼 내 및 웨이퍼 간 습식 식각 균일성을 50% 이상 개선했다.
· 향상된 입자 제거 성능: Ultra C wb 플랫폼의 첨단 세정 기능은 첨단 노드 공정에서 특수 인산염 첨가제의 유기 잔류물 제거 성능이 입증됐다.
· 확장된 공정 능력: 업그레이드된 벤치 모듈은 첨단 노드 공정 3개 레이어에 적합하며, 여기에는 적층 실리콘 질화물 제거, 채널 홀 폴리실리콘 식각 백, 게이트 라인 텅스텐 리세스 등이 포함된다. 이 장비는 인산, H4 식각제, 수산화 테트라 메틸 암모늄(TMAH), SC1 및 실리콘 게르마늄(SiGe) 식각 솔루션 등 다양한 화학 용액들과 함께 사용이 가능하다. 현재 추가적인 레이어와 응용 사례들이 고객 사이트에서 개발 중이다.
· 독립적인 지적 재산권(IP) 설계: 질소 버블링의 핵심 부품과 기술은 독립적인 지적 재산권에 의해 보호된다. 독자적인 N2 버블링 설계는 우수한 균일성을 갖춘 대형 버블을 생성하며, 버블 밀도는 정밀 제어가 가능하다.

미래예측진술

이 보도자료에 포함된 특정 진술은 역사적 사실이 아니며 1995년 미국 증권민사소송개혁법에 의거한 미래예측진술일 수 있다. ‘계획이다’, ‘기대한다’, ‘믿는다’, ‘예상한다’, ‘설계됐다’ 및 이와 유사한 단어는 미래예측진술을 식별하기 위한 것이다. 미래예측진술은 ACM 경영진의 현재 기대와 신념을 기반으로 하며, 예측하기 어렵고 실제 결과가 미래예측진술에서 언급하거나 암시한 것과 실질적으로 다를 수 있는 여러 가지 위험과 불확실성을 수반한다. 이러한 특정 위험, 불확실성 및 기타 사항에 대한 설명은 ACM이 미국 증권거래위원회(SEC)에 제출한 서류에서 확인할 수 있으며, 이 서류는 모두 www.sec.gov에서 확인할 수 있다. 미래예측진술에는 위험과 불확실성이 수반되므로 실제 결과 및 사건은 현재 ACM이 예상하는 결과 및 사건과 크게 다를 수 있다. ACM은 이 미래예측진술 이후에 발생하는 사건이나 상황을 반영하거나 미래예측진술과 관련해 예상치 못한 사건의 발생 또는 기대치의 변화를 반영하기 위해 미래예측진술을 공개적으로 업데이트할 의무를 지지 않는다.

ACM 리서치(ACM Research, Inc.) 소개

ACM은 싱글 웨이퍼 또는 배치 습식 세정을 위한 반도체 공정 장비를 개발·제조·판매하고 있으며, 전기 도금, 무응력 광택, 수직형 퍼니스, Track 및 PECVD 장비 등은 첨단 반도체 소자 제조 및 웨이퍼 레벨 패키징에 매우 중요한 공정이다. ACM은 반도체 제조업체들이 생산성과 제품 수율을 향상시키기 위해 수많은 제조 단계에서 사용할 수 있는 고성능의 비용 효율적인 맞춤형 공정 솔루션을 제공하기 위해 노력하고 있다. 자세한 내용은 홈페이지를 참조하면 된다. © ACM Research, Inc. ULTRA C 및 ACM Research 로고는 ACM Research, Inc.의 상표다. 편의를 위해 이러한 상표는 본 발표에 ™ 기호 없이 나타나지만, 그러한 관행으로 인해 ACM이 해당 상표에 대한 모든 권리를 완전히 주장하지 않는 것은 아니다. 기타 모든 상표는 해당 소유자의 자산이다.

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