기가포톤, ArF 엑시머 레이저용 가스 재활용 시스템 개발
네온 가스 재활용률 50%를 달성… 가스 감축 기술을 통해 안정적인 공급에 기여
ArF 리소그래피는 첨단 반도체의 대량 생산에 매우 중요한 역할을 한다. 안정적인 레이저 작동과 희귀 가스 자원의 효율적인 사용은 반도체 제조업체에게 중요한 과제이다.
최근 몇 년 동안 지정학적 위험과 글로벌 공급망 차질로 인해 네온 가스의 수급 균형이 점점 더 불안정해지고 있다. 기가포톤은 KrF 엑시머 레이저용 가스 감소 기술 및 가스 재활용 시스템을 통해 고객사의 안정적인 생산 유지를 지원해 왔다. 새롭게 발표된 ArF용 hTGM은 이러한 노력을 ArF 리소그래피 분야로 확장한다.
ArF용 hTGM은 반도체 제조 공장 내에서 사용된 가스를 수집하고 재활용한다. ArF용 hTGM 단일 장치는 연간 최대 470킬로리터의 가스 소비를 줄일 수 있으며 최대 5개의 ArF 레이저에 연결할 수 있다. 또한 ArF용 hTGM과의 하드웨어 공통성 덕분에 효율적인 생산량 증대가 가능하다.
기가포톤의 사장 겸 최고경영자 에나미 타츠오(Tatsuo Enami)는 “기가포톤은 엑시머 레이저의 가스 소비량을 줄이는 기술과 현장 가스 재활용 시스템을 결합함으로써 희귀 가스 조달과 관련된 위험을 완화하고 고객의 안정적인 운영을 지원하며 반도체 산업의 공급망 회복력을 강화하는 것을 목표로 한다. 기가포톤은 앞으로도 첨단 레이저 기술과 환경을 고려한 솔루션을 통해 글로벌 반도체 산업 발전에 기여할 것”이라고 말했다.
기가포톤 소개
2000년에 설립된 기가포톤(GIGAPHOTON)은 반도체 리소그래피용 KrF 및 ArF 엑시머 레이저 광원을 제공하는 선도적인 기업이다. 기가포톤은 자사의 첨단 레이저 기술을 통해 전 세계 반도체 제조업체들이 생산성 향상, 품질 개선, 그리고 더욱 지속 가능한 제조를 실현할 수 있도록 지원한다. 기가포톤의 글로벌 서비스 네트워크는 전 세계 반도체 제조업체의 가용성과 안정적인 생산 운영을 극대화하는 데 전념하는 고객 중심적인 지원을 제공한다.
기가포톤은 레이저 및 리소그래피 기술 분야의 전문성을 활용하여 반도체 리소그래피를 넘어 EUV 광원, 첨단 패키징용 엑시머 레이저, 첨단 소재 가공 응용 분야 등 새로운 분야로 역량을 확장하고 있다.
웹사이트: https://www.gigaphoton.com
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