듀폰 한국기술연구소, KIST내 설립 추진
김유승 KIST(한국과학기술연구원)원장과 존 호지슨 듀폰(DuPont) 수석부회장은 10월 21일(목) 오후 4시 KIST 제1회의실에서 양 기관 관계자들이 참석한 가운데, KIST내에 “듀폰 한국기술연구소(DuPont Korea Technology Center)”를 설립하고, 향후 공동연구과제를 찾아 협력하기 위한 협약을 체결하였다.
또한 존 호지슨(John Hodgson) 듀폰 수석부회장은 “비록 이번에 설립되는 R&D 연구소가 작은 규모로 시작하게 되지만, 듀폰이 가지고 있는 세계 최고 수준의 연구개발과 연구확산능력을 한국의 주요 고객들에게 직접 전달할 수 있게 되었다는데 큰 의미가 있다.”며 “듀폰의 고객뿐만 아니라 한국의 대학, 정부, 업계와 긴밀하게 협력함으로써, 좀더 빠르게 재료 과학을 발전시킬 수 있을 것”이라고 덧붙였다.
KIST-듀폰 간에 공동연구 추진은 양측이 구체적인 연구 분야 및 범위를 협의하여 정한 후 협약체결일로부터 2년 이내에 공동연구를 개시한다는 계획이지만 연구 착수 시기는 그 이전이라도 최대한 단축해서 수행할 예정이다. 그리고 여기에 필요한 공동연구비는 듀폰에서 지원하는 것을 원칙으로 하되 KIST는 필요에 따라 매칭 펀드 형태로 연구개발자금을 투자할 방침이다.
‘듀폰 한국기술연구소’의 설립은 과기부 산하 해외우수연구기관 유치전담 기관인 국제과학기술협력재단(KICOS 이사장 서정욱)의 중재로 추진되기 시작하여, 금년 5월 ‘듀폰-KICOS’간에 한국내 R&D 센터 설립에 관한 포괄적 기본합의가 이루어짐에 따라 급진전 됐다.
‘듀폰 한국기술연구소’는 1단계로 디지털 디스플레이 신재료에 대하여 2년간 집중적인 연구를 수행하고 그 결과를 토대로 2단계부터는 KIST와 공동연구 과제를 선정하여 3년간 첨단 원천기술개발에 나설 계획이다.
세계적 명성의 연구소와 국내 최고의 연구기관인 KIST의 협력은 향후 첨단 소재개발 분야 등에서 상당한 시너지 효과를 낼 것으로 기대된다.
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