사이머/KLA-텐코, 리소그래피 프로세스 분야 협력
이번 기술제휴 계약에 따라 Cymer는 KLA-Tencor의 업계 표준 PROLITH 리소그래피 최적화 툴로의 통합을 위한 광원 스펙트라에 대한 세부 정보를 제공한다. 또한 양사는 향후 PROLITH 개선을 위해 지속적으로 협력키로 합의했다.
이러한 협력을 통해 Cymer와 KLA-Tencor는 양사의 서로 입증된 기술 경험을 십분 활용, 정확도를 높임으로써 사용자에게 전체 광학 리소그래피 프로세스에 대한 더 정확한 표현에 즉시 접근할 수 있도록 할 계획이다. 이로써 고객은 리소그래피 프로세스를 매우 신속하게 최적화할 수 있기 때문에 오늘날 고급 리소그래피 분야에서 성공하는 데 있어 핵심적인 차별화 요소인 생산 기간의 단축과 전반적인 투자 수익(ROI)의 극대화를 실현할 수 있을 것으로 보인다.
“최근 고차원의 조리개수(NA) 사용 및 프로세스 윈도우 축소로 인해 임계치수(CD)에서 레이저 대역폭의 효과가 더 중요해졌다. 이러한 효과가 점차 중요해짐에 따라 고객에게 제공되는 광원 스펙트라에 대한 보다 정확한 표현이 절실해지고 있다. Cymer의 레이저 스펙트라 데이터 및 노하우를 활용함으로써 고객들에게 완벽한 광학 리소그래피 프로세스는 물론, 한층 더 높아진 정확도를 제공할 수 있게 됐다”고 KLA-Tencor 프로세스 분석 사업부의 에드워드 채리어(Edward Charrier) 제너럴 매니저가 말했다.
PROLITH 고급 리소그래피 프로세스 최적화 툴은 프로세스 성능 개선을 평가하는 동안 사용자에게 리소그래피 프로세스 변수의 영향에 대한 통찰력을 제공한다. PROLITH를 사용하는 사용자는 새롭게 향상된 기능을 통해 고급 리소그래피 프로세스 상에서 광원 스펙트라 특성의 변경에 대한 영향을 모델링하고 이러한 결과를 사용하여 프로세스를 더 최적화함으로써 변화에 대한 영향을 최소화할 수 있다.
“현재 5년 넘게 KLA-Tencor와의 협력을 통해 CD에 대한 레이저 대역폭의 영향을 시뮬레이션하고 있다. 이번에 또 한번 PROLITH 최신 버전 개발을 위해 협력함으로써 중요한 업계의 요구사항을 만족시키기 위해 노력할 것이다. KLA-Tencor의 PROLITH에 Cymer 대역폭 데이터를 통합하는 작업은 이미지에 대한 레이저 대역폭 영향과 관련한 Cymer의 광범위한 연구를 토대로 구축되고, 고객에게 활용 가능한 차세대 리소그래피 기술을 제공한다”고 Cymer의 리소그래피 애플리케이션 마케팅 담당 니겔 파라르(Nigel Farrar)부사장은 말했다.
현재 PROLITH의 최신 업데이트인 버전 9.3.1이 공급 중이다.
KLA 개요
KLA는 전자 산업 분야에서 혁신을 선도하는 최고의 장비와 서비스를 개발한다. KLA는 웨이퍼와 레티클, 집적 회로, 패키징, 인쇄회로 기판과 평판 디스플레이(FPD) 제조하기 위한 공정을 실현하는 솔루션과 첨단 공정 제어 역량을 제공한다. 물리학자, 엔지니어, 데이터 과학자, 문제 해결 전문가들로 구성된 사내 전문가 팀은 세계 각지의 일류 고객사와 긴밀히 협력해 세계를 발전시킬 솔루션을 설계한다. 더 자세한 정보는 kla.com에서 확인할 수 있다(KLAC-P).
웹사이트: http://www.kla-tencor.com/ko
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