‘산업용 이온빔 장치’기술실시 계약
금번 이전 기술을 통해 제작된 산업용 이온빔 조사장치(양성자기반공학기술개발사업단 보유 장치)
산업용 이온빔 장치는 헬륨, 질소, 아르곤, 제논 등의 이온을 대량으로 발생시킨 뒤 이를 수 십 KeV 이상으로 가속해서 물질 내에 주입하거나 표면에 조사하는 장치다. 금속 표면의 경도, 내마모성 및 내부식성 향상, 고분자 표면의 전기 전도도 향상, 자외선 차단, 광투과율 조절 등 물질의 표면 개질과 미세가공에 널리 이용되고 있다.
이번에 이전한 ‘산업용 이온빔 장치’ 제작기술은 한국원자력연구소가 개발한 기술을 모태로 양성자가속장치 기술을 응용, 장치 각 부분을 개량해 이온빔 조사처리 능력을 기존 장치보다 수 배 이상 높이고 장비의 범용성을 크게 향상시킨 것이다. 전 세계적으로 지금까지 개발된 이온빔 장치는 반도체 부문에 활용이 한정되어 있지만 이번에 이전한 기술은 비반도체 분야에 널리 활용할 수 있는 장점이 있다.
이온빔 장치의 세계 시장 규모는 2004년 기준 연간 약 12억 달러이며, 국내 시장의 경우 반도체 도핑용으로 수입된 것만 1억 8,000만 달러에 달했다. 현재 국내에서 사용되고 있는 이온빔 장치는 700대 정도로, 연평균 80대 이상의 신규 수주가 발생하고 있다. 이온빔 조사장치의 대당 가격은 10억~40억 원으로 이번 기술 이전을 통해 생산성이 크게 향상된 장치를 국내 생산할 수 있게 되었으며, 제작원가도 상당히 낮춰 향후 국제적인 경쟁력을 확보할 수 있을 것으로 기대된다.
배상열 아이시스㈜ 대표이사는 “고분자 플라스틱을 전도체로 바꾸고 전자파 차폐 기능을 띠게 하는 등 이온빔 장치의 활용 분야는 다양하다”며 “특히 나노가공, 나노소재 생산 등 향후 나노기술을 구현하는데도 이온빔 장치 기술이 크게 활용될 것”이라고 밝혔다. 아이시스㈜는 Physical Vapor Deposition설비, 대면적 Sputtering 설비, 각종 Coating 설비, Plasma Source 등을 생산하는 업체로 지난 11월 중기청으로부터 이노비즈 기업으로 선정됐다.
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