하이닉스반도체 44나노 DRAM 집적화 기술, ‘VLSI’ 반도체학회서 발표논문 선정

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2008-04-29 09:04

이천--(뉴스와이어)--하이닉스반도체(http://www.hynix.com 대표이사 김종갑(金鍾甲))는 29일, 금년 6월에 개최될 VLSI Symposium에서 이현진 선임연구원 등 17명이 공동으로 저술한 ‘44나노 DRAM 집적화’에 관한 기술이 발표논문으로 선정됐다고 밝혔다. 하이닉스는 이 논문에서 진보된 3차원 소자를 통해 가장 작은 사이즈의 DRAM 집적화를 구현해낸 최첨단 기술을 발표해 기존 DRAM 기술의 한계를 넘어섰다는 평가를 받고 있다.

VLSI학회는 IEDM과 더불어 반도체 분야의 가장 권위있는 학회로, 주로 선행 연구·기술과 관련된 논문이 발표된다. 이번 학회의 하이라이트에는 총 4개의 논문이 발표되며 이 중 하이닉스는 IBM, 도시바, 인텔에 앞서 발표하는 영예를 누리게 됐다.

논문의 발표자는 하이닉스 연구소 소자기술팀의 이현진 선임연구원으로, 이 선임은 작년에도 동 학회에서 ‘Best Student Paper’를 수상한 바 있다. 하이닉스는 이번 논문 선정에 대해 “하이닉스의 DRAM 집적화 기술이 국제적으로 인정받았다는 점에서 의미가 크다”고 전했다.

하이닉스는 지난 2월 금년 R&D 투자를 매출액 대비 8% 수준으로 늘리겠다고 밝힌 이후, 경쟁우위의 기술개발 및 미래기술 확보에 역량을 집중해 왔다.

* VLSI(2008 symposia on VLSI Technology) : 반도체 분야 세계 최고 권위의 학회로, 1981년 창설된 이후 매년 6월 미국과 일본에서 번갈아 개최된다. 한 해 동안 세계 각국의 반도체 업계 및 학계에서 응모된 논문 중 가장 뛰어난 성과를 보인 논문을 선정해 발표하는 자리다.

웹사이트: http://www.skhynix.com