KRISS, 제2회 반도체 공정진단 워크숍 개최
이번 워크숍에서는 플라즈마 공정진단, CVD/ALD 공정 진단, 오염원 및 펌프진단, 관련 데이터처리 개발 현황 등에 대해 집중 논의할 예정이다.
카네기멜론대 스트로지바스(Andrzej J. Strojwas) 교수의 ‘공정과 수율 상관관계의 총체적 모델링’, 스트라툼사 마커스 캐버리(Marcus Cabery) 기술총괄팀장의 ‘RF센서를 이용한 실시간 박막공정진단’ 등에 대한 주제로 특별초청 세미나가 있으며, 서울대 김곤호 교수의 ‘전기신호를 이용한 공정 플라즈마 진단 기술 개발 현황‘, KRISS 강상우 박사의 ’CVD 공정진단 및 오염도평가 연구‘, 삼성전자 이헌정 수석의 ”반도체 설비 Catacterization and Contol" 등의 발표가 있을 예정이다.
이외에도 다수의 산학연 전문가들이 참여하는 포스터발표 및 장비전시회가 함께 열려 국내 최대 규모의 반도체공정진단기술 축제가 될 전망이다.
KRISS 관계자는 “현재 우리나라 반도체 공정기술은 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖고 있지만 반도체 공정을 실시간으로 모니터링하고 분석할 수 있는 진단기술은 매우 취약한 실정”이라며 “이번 워크숍이 정기적인 산·학·연 연계 프로그램으로 자리 잡아 반도체 공정 및 장비 기술 자립화를 높이는 데 기여할 것”이라고 말했다.
미래 반도체 산업에서 경쟁력을 확보하기 위해서는 반도체 제조에 대한 실시간 진단 및 제어기술개발을 통해 생산시간을 단축하고, 수율향상을 이루어내는 것이 무엇보다 중요하다. 실제로 웨이퍼 대구경화 및 극미세패턴화에 따라 공정을 정확히 진단하고 제어하는 기술은 미래 반도체 산업의 성패를 가늠하는 핵심 분야이다.
이에 세계 각국은 반도체 산업분야 선점을 위해 실시간 공정진단 기술 확보에 노력하고 있다. 하지만 이 분야의 기술개발은 아직 초기 단계인 만큼 연구역량을 얼마나 집중하느냐에 따라 관련 분야 산업의 미래 경쟁력이 결정될 것으로 예상된다.
전략기술연구본부장 신용현 박사는 “작년 처음 열린 반도체 공정진단 워크숍에서는 국내전문가들이 한자리에 모여 그 중요성을 공유한 것에 의미가 있다면 올해부터는 현장에서 필요로 하는 반도체 기술이나 장비 국산화에 초점을 맞춰 실질적인 산학연 협력이 이루어질 수 있도록 할 것”이라고 말했다.
한편, 지난해 열린 제1회 반도체공정진단 워크숍을 계기로 올해 초에는 ‘반도체공정진단 연구회’가 발족되어 관련 산·학·연 전문가 간 지속적인 교류가 가능해질 전망이다.
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