7월의 KRISS인상 수상자, 김경중 박사
KRISS에서는 매월, 그리고 매년 연구기관을 빛낸 연구원을 선정해 이달의 KRISS인상 및 올해의 KRISS인상을 시상하고 있다.
김 박사는 반도체 소자 공정에 가장 중요한 분석 난제 중 하나인 산화막의 나노미터(nm , 10억분의 1 m) 두께를 정밀하게 측정하는 기술 개발에 성공해 그 우수성을 인정받았다. 또한 대표적 표면분석법인 엑스선광전자분광법(XPS)과 절대 두께측정법인 고분해능 투과전자현미경(TEM)의 장점을 활용한 상호보정법으로 나노미터의 산화막 두께 측정 소급체계를 확립했으며, 박막 두께 측정용 인증표준물질을 개발했다.
최근에는 반도체 박막 두께 측정 장비로 반도체 생산 라인에 도입되고 있는 렉세스(LEXES)의 세계적 제조업체인 프랑스 카메카(Cameca)사의 요청에 따라 2008년부터 박막두께측정용 인증표준물질 개발을 위한 국제자문과제를 수행하고 있다.
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2012년 5월 3일 09:29