에스앤에스텍, 고부가가치 블랭크마스크 본격 생산 능력 확대

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에스앤에스텍 코스닥 101490

2009-05-19 10:00

대구--(뉴스와이어)--반도체 및 TFT-LCD용 블랭크마스크(Blank Mask) 제조업체인 에스앤에스텍(대표 남기수 101490)은 고부가가치 블랭크마스크 생산능력 확대 및 성능 향상을 위해 일본 반도체 장비업체와 36억원 규모의 증착장비 설비투자를 결정했다고 19일 밝혔다.

에스앤에스텍은 고부가가치 제품인 위상시프트 블랭크마스크(Phase Shift Blank Mask) 및 하드마스크(Hard Mask)의 효과적인 생산과 블랭크마스크 수요 증대에 대비한 생산능력 증대를 장비투자의 목적으로 밝혔다.

위상시프트 블랭크마스크 및 하드마스크는 반도체 소자의 고해상도 구현이 가능한 고부가가치 블랭크마스크로 반도체 집적도 향상에 따라 그 수요가 지속적으로 증가하고 있다.

최근까지 하이엔드(High-end) 블랭크마스크는 전량 일본으로부터 수입했으나, 에스앤에스텍은 지속적인 연구개발을 통해 최근 국내 반도체회사의 품질인증을 완료하고 본격 납품을 시작했으며, 국내외 고객을 대상으로 활발한 판매활동을 진행하고 있어, 향후 매출증대뿐만 아니라 수익성 향상에도 크게 기여할 것으로 기대하고 있다.

에스앤에스텍 남기수 사장은 "이번 신규 장비투자를 통해 고부가가치 제품 생산을 위한 전용라인을 구축하는 동시에 큰 폭으로 증대하고 있는 기존 블랭크마스크 제품에 대한 수요에도 효과적으로 대응, 매출증대가 지속적으로 이뤄질 것"이라고 말했다.

한편, 에스앤에스텍은 05월 18일 일본 화학소재기업 신에츠와 고부가가치 블랭크마스크 관련 특허 로열티 계약을 체결, 특허 사용 판매액의 일정비율을 로열티로 받게 됐다고 밝힌 바 있다.

에스앤에스텍 개요
에스앤에스텍은 반도체 및 TFT-LCD 제조에 사용되는 포토마스크의 핵심재료인 블랭크마스크(Blank Mask) 제조업체다. 2002년 국내 최초로 블랭크마스크 기술 개발에 성공, 반도체 및 소형 LCD용 블랭크마스크를 생산해왔으며, 2005년 대형 TFT-LCD용 블랭크마스크를 개발하며 사업영역을 확장했다. 현재 BIM 블랭크마스크 외에 Advanced 제품인 CAR, TM 블랭크마스크를 양산하여 국내외에 공급하고 있다. 대구 성서첨단산업단지에 본사와 공장을 두고 있다.

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