나노베이스, ‘광 정렬 장치’ 관련 다섯번째 특허 취득

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오픈베이스 코스닥 049480

2009-10-20 10:48

서울--(뉴스와이어)--솔루션 기반의 IT 서비스 전문기업인 ㈜오픈베이스(대표 송규헌 / www.openbase.co.kr)는 자회사인 ㈜나노베이스(대표 정진섭 / www.nanobase.co.kr)가 광 정렬 장치와 관련한 내용으로 회사 설립 이후 다섯번째 특허를 취득했다고 20일 밝혔다.

광학 기술의 발전은 다양한 산업 전반에 영향을 미치고 있다. 미세 가공에서부터 초고속 통신에 이르는 광범위한 차세대 기술의 기반이 되고 있다. 특히, 레이저를 이용하여 미세 가공이나 표면을 바꾸는 기술, 의학용 메스나 특정 세포를 선별하여 제거하는 기술, 광학 매체를 이용하여 데이터를 재생하는 기술, 광 섬유의 전반사를 활용한 초고속 통신 기술, 나노 크기의 입체적 시료에 대한 구성을 파악하는 현미경 기술 등 산업 및 의료 기술에 접목된 광학 기술의 중요성은 더욱 높아지고 있다.

광학 기술을 이용한 장치의 경우, 광 손실은 낮추면서 광 섬유에 광을 정밀하게 투입하기 위해 광 정렬은 더욱 높은 정밀도를 요구하게 된다. 광 정렬이 어긋날 경우 광 전달 효율이 크게 떨어지게 된다. 일반적으로 많이 사용하는 수동 조작 방식의 틸트 스테이지를 통해 광 섬유 정렬을 실시하는 경우, 정렬 시간이 상당히 오래 걸리게 될 뿐 아니라, 정렬하는 사람마다 편차가 발생하게 되어 신뢰성이 낮아지게 된다.

금번에 나노베이스가 특허를 취득한 내용은, 바로 이러한 광 정렬 장치에 대한 방법으로서, 정밀 정렬이 필요한 광학류 제품에서 광 소스의 위치와 초점을 자동으로 보정하는 기술에 대한 것이다. 나노베이스는 이 기술을 토대로 엑스퍼레이 FAC (Xperay Fiber Auto Calibrator)란 제품을 개발했다. 일반 휴대폰 크기 정도인 엑스퍼레이 FAC를 기본 모듈로 구성하면, 복잡하고 큰 대형 정밀 스테이지를 적용하지 않더라도, 시간도 훨씬 줄어들 뿐 아니라 매번 정확한 정렬을 보장할 수 있어서, 효율성과 편의성 면에서도 그 기대효과가 상당히 높다.

나노베이스는 신기술 연구 및 신제품 개발에 투자와 노력을 아끼지 않고 있다. 이번 달 27일부터 열리는 한국기계전 내 국산연구장비전에 참가할 예정이며, 이 전시회에서 기존의 제품인 엑스퍼레이 튜너블레이저, 엑스퍼레이 스펙트로미터 뿐만 아니라 이를 이용한 라만 분광기 데모 시연도 펼치게 된다. 금번에 특허를 취득한 엑스퍼레이 FAC 또한 전시된다.

또한, 최근 일본 업체와도 리셀러 계약을 체결했으며, 연내에 유럽 지역 리셀러 계약을 추가로 체결할 계획이어서, 국내외 시장을 대상으로 체계적인 영업력 확보에도 총력을 기울이고 있다.

웹사이트: http://www.openbase.co.kr