대전--(뉴스와이어)--반도체 산업의 발전으로 나노 크기의 미세 구조와 그 결함을 측정하는 나노계측장비의 수요가 크게 증가하고 있다. 특히, 반도체 소자생산에서 첨단 계측검사 분야는 전체 반도체 공정에서 단위 공정 수의 50 %를 차지하고, 전체 팹 장치 투자 규모의 10~15 %를 차지할 정도로 그 비중이 점차 커지고 있는 추세이다. 나노 크기의 미세 구조와 결함을 측정하기 위해서는 광학, 전자빔, X 선, 탐침 등을 이용한 최고 수준의 나노계측기술이 사용된다. 하지만 우리나라는 반도체 소자제작 분야에서 세계 최고 수준이지만 대부분의 첨단 장비 및 나노계측기술은 해외 기술에 의존하고 있는 형편이다.

이를 해결하기 위해 11월 3일(화) 국내 반도체 계측분야 관련 출연(연), 산업체, 대학 등 산학연 전문가 40 여명이 선문대학교에 모였다. 국내 반도체 측정/검사(MI : Metrology/Inspection)기술 현황 및 발전 방향을 주제로 열린 이번 행사는 초소형 전자현미경의 제작/응용 연구교류회(한국표준과학연구원·한국기계연구원 합동)와 선문대학교 차세대반도체/디스플레이 센터가 공동으로 주최하였다.

이번 포럼에는 삼성전자, 하이닉스 반도체, 동부하이텍 등을 비롯해 출연(연), 대학, 중소기업체 등 20개 기관의 전문가들이 참가하였다. 참석자들은 ▲국내 반도체 소자산업의 MI 현황 ▲국내 MI 장비산업 현황 ▲MI 연구 활성화를 위한 방안 등에 관해 논의하였다. 또한 선진국에 비하여 매우 늦은 감은 있지만 지금부터 산학연이 적극적으로 협력하여 연구 개발이 진행되어야 한다는 것이 참여 기업들의 의견이었다.

첨단 반도체계측산업은 반도체 및 타 정밀산업의 체질강화에 필수적인 전략산업이다. 하지만 소자업체, 장비업체 등과 국가 연구개발사업 간 연계성이 떨어져 해당 산업 활성화를 위해서는 보다 체계적인 프로그램 개발과 상호교류의 장 마련이 필수적이라는 의견이 제기되어 왔다.

반도체 MI 기술 포럼을 공동 주관한 KRISS 첨단장비기술센터장 박병천 박사는 “올해 초부터 반도체 계측장비 기술 개발을 위한 산학연 기술교류회를 구성해 활동하고 있다.”며 “산학연이 보유하고 있는 기술력과 관련 인프라를 모아서 체계적으로 접근해 나간다면 우리나라도 첨단 계측장비산업분야에 도전할 수 있을 것”이라고 말했다.

선문대 차세대반도체/디스플레이 센터장 김호섭 교수는 “첨단 반도체계측장비기술은 나노·바이오산업에도 중요한 기반기술”이라며 “반도체 및 디스플레이산업에 이어 나노와 바이오 산업분야가 세계 1위로 성장하기 위해 전자빔 기술을 포함한 핵심적 계측장비기술 개발을 신속하게 진행해야 한다.”고 말했다.

이번 포럼을 계기로 MI분야 상호교류의 장으로서 학술대회에 MI 분과를 신설하여 정기적인 모임을 가질 계획이다.

한국표준과학연구원 개요
국가측정표준 정점이며 가장 앞서가는 측정을 연구하는 대덕연구단지내의 출연연구기관입니다.

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