노벨러스, 32nm이하 노광 공정서 임계 선폭 조절 가능한 초정밀 반사 방지막 개발

- 새로운 VECTOR PECVD 공정으로 단일 스테이션 증착 방식 대비 4배 이상 웨이퍼 간 산포 개선한 조건으로 패턴화된 층 증착

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2010-05-12 09:51

서울--(뉴스와이어)--노벨러스 시스템(NASDAQ: NVLS)은 웨이퍼 간 두께 편차가 2A(angstroms) 이내인 초 정밀 반사 방지막(Anti-Reflective Layer)을 플라즈마 화학 증착 장비 (PECVD)인 노벨러스 VECTORTM 플랫폼에서 개발했다고 발표했다. VECTORTM 의 다층 순차 증착 방식(Multi-Station Sequential Process: MSSP®)을 이용한 이 새로운 공정 기술은 매우 균일한 박막 두께, 굴절계수(n)와 흡착 계수(k)를 가진 ARL 박막을 증착한다. 이 새로운 박막의 주요 특성들은 32nm 이하 노광 공정에서의 요구치를 초과하고, 병렬식 독립 증착 방식(side-by-side single station-like deposition architecture)을 사용, 증착한 유사한 박막들보다 매우 우수하다.

32nm 및 그 이후의 노광 공정에서 임계 선폭(critical dimension: CD) 편차 조절은 필수적이다. 2009 국제 반도체 기술 로드맵 (International Technology Roadmap for Semiconductors, ITRS)은 고성능 회로의 실용성 보증을 위해 전체 1nm이하의 임계 선폭 편차를 권장한다. 복합 광 근접 보정과 최첨단의 위상 변화 마스크와 같은 진보된 노광 임계 선폭 조절 장비는 32nm 제품 생산 시 요구 되는 엄격한 선폭 조절을 위해 실행되는데 가격이 매우 비싸다. 편차 조절을 위해 사용되는 효과적이면서 보다 저렴한 노광 기술인 선량 보상(dose compensation)은 웨이퍼 상의 특정 부분을 위해 소프트웨어 알고리즘을 이용하여 노광 되는 양을 조절한다. 이 선량 보상 전략은 적절한 성능을 보장하기 위해 진행할 각 웨이퍼의 예측 가능한 반사 방지막의 두께와 광학 특성을 요구 한다.

노벨러스는 이러한 선량 보상 조절 전략 이용 시 요구되는 초 균일의 웨이퍼 간(wafer-to-wafer) 성능을 제공하는 새로운 ARL 공정 기술을 VECTORTM 플랫폼에서 개발했다. 이 새로운 공정 기술은 32nm이하의 노광 공정에서 예측 가능한 박막의 성능을 제공하기 위해 VECTORTM 의 0.3mm이하 회전각도 변위 정밀도(angular placement accuracy)와 결합되었다. 그림. 1은 VECTORTM 에서 다층 순차 증착 방식으로 공정된 박막과 병렬식 독립 증착 방식을 사용하여 증착된 ARL박막의 두께 프로파일을 보여준다. VECTORTM ARL박막 두께 맵(map)은 각 웨이퍼의 예측 가능한 프로파일과 함께 낮은 웨이퍼 내(within-wafer) 및 웨이퍼 간의 편차를 보여준다. 반면 병렬식 독립 증착 방식을 사용하여 증착된 ARL박막은 선량 보상 조절 전략을 위협할 수 있는 큰 웨이퍼 간의 편차를 보이고 있다.

그림. 2는 노벨러스의 새로운 ARL공정 기술을 사용하여 얻을 수 있는 낮은 웨이퍼 간의 편차를 더 정량화하며, 300장 이상의 웨이퍼에서 측정한 웨이퍼 상의 표준화된 한 지점의 ARL두께를 보여준다. 노벨러스의 ARL 공정은 1.6A 또는 전체 범위의 0.34%의 두께 편차를 갖는다. 병렬식 독립 증착 방식은 노벨러스의 공정보다 4배 이상이나 더 높은 7.3A(전체 범위의 1.5%)의 두께 편차를 갖는다. 병렬식 독립 증착 방식 고유의 이분된 생산 방식에서 나온 이러한 편차는 너무 커서 임계 선폭 조절을 위한 선량 보상을 효과적으로 이용하는 것이 어려울 수 있다.

노벨러스 PECVD사업부총괄 겸 부사장인 케빈 제닝스(Kevin Jennings)는 “VECTORTM 플랫폼에서 개발된 정밀 ARL박막의 새로운 세대는 향후 진보된 기술 세대에서 임계 선폭 조절을 위해 필수적인 초 균일의 두께와 광학적 특성을 가지고 있다”고 말하면서, “반사도 조절을 위해 채택될 이중 혹은 삼중 적층의 PECVD ARL박막으로써 VECTORTM 의 고유한 공정 조절은 feed-back과 feed-forward 임계 선폭 조절의 효과적인 사용을 가능케 할 것”이라고 덧붙였다.

노벨러스 막 두께 프로파일 조절에 관한 더 많은 정보는 www.novellustechnews.com에서 찾아볼 수 있다.

노벨러스 PECVD기술 소개

VECTORTM 의 다층 순차 증착 방식을 이용해서 증착된 노벨러스의 PECVD막은 양분되지 않는 웨이퍼 간 및 포인트 간의 재현성을 갖는다. 이것은 모든 막, 특히 엄격한 노광 공정 표준에 의해 조절되는 광학막을 위한 차세대 기술의 가변성 요구치를 만족한다. 이러한 VECTORTM 의 업계 선도 능력으로 전 세계적으로 70개의 생산공장에서 1000대 이상의 시스템이 설치되어 하루 백만 장 이상의 웨이퍼를 공정하고 있다.

노벨러스 회사소개

노벨러스 시스템(Nasdaq: NVLS)은 반도체 업계에 최첨단 공정 설비를 제공하는 글로벌 선도 기업으로 믿을 수 있는 생산성과 혁신적 기술을 고객에게 제공하고 있다. S&P 500 기업이며 캘리포니아 주 산호세에 본사를 두고 전세계에 지사를 운영하고 있다. 보다 많은 정보는 www.novellus.com에서 찾을 수 있다.

노벨러스시스템 개요
Novellus Systems(NASDAQ: NVLS)은 세계적인 반도체 부품 기업이다

웹사이트: http://www.novellus.com