에스앤에스텍, 하이엔드 제품 세계시장 진출 시동

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에스앤에스텍 코스닥 101490

2010-05-17 09:45

대구--(뉴스와이어)--에스앤에스텍이 향후 블랭크마스크(Blank Mask) 시장을 주도할 하이엔드(High-end) 제품에 대한 세계시장 진출에 시동을 걸었다.

반도체 및 TFT-LCD용 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수 101490)은 국내 반도체업체로부터 하이엔드 제품 중 하나인 PSM(위상시프트) 블랭크마스크에 대한 수주를 확보했다고 17일 밝혔다.

PSM 블랭크마스크는 반도체 소자의 고해상도 구현이 가능한 고부가가치 제품인 하이엔드 블랭크마스크 중 하나로, 반도체 집적도가 향상되는 업계 추세에 따라 그 수요가 지속적으로 증가하고 있는 제품이다. 블랭크마스크는 반도체 및 TFT-LCD 공정 핵심재료인 포토마스크(Photomask)의 원재료로 패턴이 노광되기 전의 마스크를 의미한다.

에스앤에스텍은 이번 수주 확보를 통해 기존 일본 업체들이 독점하던 세계 하이엔드 블랭크마스크 시장에 첫 진출하게 됐다. 기존 하이엔드 블랭크마스크 시장은 일본 블랭크마스크 업체들이 세계시장 대부분을 차지하고 있는 독점 시장이었다.

에스앤에스텍은 PSM 블랭크마스크의 성공적인 시장 진출을 통해 제품다변화를 구축함으로써, 고객의 다양한 수요에 적시 대응할 수 있는 영업전략을 구축하게 됐다고 밝혔다. 또한 하이엔드 블랭크마스크 제품에 대한 설비투자가 활발히 이뤄지고 있어, 이를 기반으로 기존 제품 및 하이엔드 제품의 품질수준 또한 개선될 것이라고 밝혔다.

에스앤에스텍 관계자는 “이번 PSM 블랭크마스크 시장 진출을 시작으로 올해 전체 매출 중 하이엔드 제품에 대한 매출 비중을 8% 이상으로 예상하고 있다”며, “내년부터 본격적인 매출 증대가 이뤄질 것으로 전망하고 있어, 향후 하이엔드 블랭크마스크 시장에 성공적으로 자리매김할 것”이라고 말했다.

에스앤에스텍 개요
에스앤에스텍은 반도체 및 TFT-LCD 제조에 사용되는 포토마스크의 핵심재료인 블랭크마스크(Blank Mask) 제조업체다. 2002년 국내 최초로 블랭크마스크 기술 개발에 성공, 반도체 및 소형 LCD용 블랭크마스크를 생산해왔으며, 2005년 대형 TFT-LCD용 블랭크마스크를 개발하며 사업영역을 확장했다. 현재 BIM 블랭크마스크 외에 Advanced 제품인 CAR, TM 블랭크마스크를 양산하여 국내외에 공급하고 있다. 대구 성서첨단산업단지에 본사와 공장을 두고 있다.

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