제 4회 반도체 공정진단 워크숍 개최
세계 각국은 반도체 산업분야 선점을 위해 실시간 공정진단 기술 확보에 노력하고 있다. 하지만 이 분야의 기술개발은 아직 초기 단계인 만큼 연구역량을 얼마나 집중하느냐에 따라 관련 분야 산업의 미래 경쟁력이 결정될 것으로 예상된다.
이번 워크숍에서는 반도체 디스플레이 생산 공정을 모니터링·분석·제어·관리를 위한 기술개발을 위해 플라즈마 공정진단, CVD/ALD 공정 진단, 오염원 및 펌프진단, 관련 데이터처리 개발 현황 등에 대해 집중 논의할 예정이다.
이날 초청 강연에는 삼성전자 박문한 수석의 ‘차세대 로직공정 기술동향’과 KRISS 신용현 박사의 ‘차세대 반도체용 진공공정 실시간 측정진단 기술 개발 현황’, LG디스플레이 권혁진 부장의 ‘설비 예지보전 현황과 향후 전망’, 연세대 한재원 교수의 ‘반도체 공정 및 장비 진단을 위한 공간분해 발광분광기 개발’, 나노텍 차동호 사장의 ‘실시간 CVD 공정진단 SENSOR-SP OES' 등에 대한 발표가 있을 예정이다. 또한 다수의 산학연 전문가들이 참여하는 포스터발표도 함께 열려 산학연이 함께하는 반도체 공정 측정 진단기술에 대한 정보 교류의 장이 될 전망이다.
KRISS 진공기술센터 윤주영 박사는 “현재 우리나라 반도체 공정기술은 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖고 있지만 반도체 공정을 실시간으로 모니터링하고 분석할 수 있는 진단기술은 취약한 실정”이라며 “산학연 협력을 통한 반도체 공정진단기술 개발을 통해 세계 반도체 시장에서의 경쟁력을 한 단계 높이는 계기가 될 것”이라고 말했다.
지난 2008년 KRISS를 주축으로 반도체 소자업체 등 산학연 약 50 여개 관련 기관이 참여하는 반도체공정진단 기술연구회가 구성되었으며, 매년 반도체공정진단 워크숍 및 교류회를 개최해 국내 반도체 공정진단 연구자들의 토론의 장을 마련하고 있다. 이를 통해 KRISS는 국내 반도체 산업 경쟁력 확보에 핵심이 되는 공정 측정 진단 기술 분야의 정보 교류 활동 및 산학연 협력 체제 구축을 통해 반도체 공정 및 장비 기술 자립화를 높이는데 기여하고 있다.
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2012년 5월 3일 09:29