노벨러스, 업계에서 가장 빠른 PECVD 시스템, VECTOR EXTREME TEOS xT 출시

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2011-01-28 10:33

산호세--(뉴스와이어)--노벨러스 시스템(NASDAQ: NVLS)은 자사의 신제품 VECTOR® Extreme TEOS xT TM를 전 세계의 주요 반도체 기업으로부터 수주 출하했다고 밝혔다. 노벨러스의 우수한 VECTOR Extreme 플랫폼에 기반을 두고 있는VECTOR Extreme TEOS xT시스템은 시간당 300개 이상의 웨이퍼 생산을 가능케 하는 업계에서 가장 빠른 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 시스템이다.

VECTOR Extreme TEOS xT시스템은 이러한 높은 쓰루풋과 함께 업계 최고인 나노단위 수준의 결함도를 달성하였으며, 이는 24nm 메모리 생산에 필요한 완성도를 넘어선 것으로 생산량 증가에 기여할 수 있다. 현재 D램과 낸드 플래시 메모리칩 생산에 사용된 전체 PECVD 절연필름의 50% 이상이 TEOS Oxide 어플리케이션에 기반하고 있다.

VECTOR Extreme TEOS xT 시스템은 아래와 같은 혁신적인 기능을 통해 목표 성능을 달성했다.
- Dynamic Plasma Control (DPC™) hardware: 높은 증착율 통한 업계 선도적 성능 구현
- RapidClean™: 빠른 챔버 청소 기술
- xT™ 웨이퍼 핸들러: 개선된 조종 시스템을 통한 웨이퍼 적층 정확성 증가와 시간 단축
- High Conversion Efficiency (HCE™) 기화기 기술: 혁신적인 결함도 절감
- OHD™ 프로파일 패키지: 화학 기계적 연마 과정의 요구사항을 충족하는 필름 두께 프로파일 조정

VECTOR Extreme TEOS xT 시스템의 우수한 기능들을 통해 경쟁사와 비교시, 화학적 비용 29% 감소, 에너지 소비 25% 감소를 보인다.

노벨러스의 케빈 제닝스(Kevin Jennings) PECVD 사업부 부사장은 “가격에 민감한 컨수머 제품에 대한 수요 증가가 메모리 반도체 가격 하락에 대한 부담으로 작용하고 있는 만큼, 반도체 제조사들은 자본 부담과 운영 비용을 줄이고, 양산을 증가시킬 수 있는 제조 장비를 찾고 있다”며, “VECTOR Extreme TEOS xT 시스템은 설계 단계에서부터 이러한 요구를 충족시킬 수 있도록 고안이 되어, 전세계 반도체 장비 회사들로부터 좋은 반응을 얻고 있다.”고 전한다.

VECTOR Extreme TEOS xT 시스템에 대한 자세한 내용은 www.novellustechnews.com에서 찾을 수 있다.

노벨러스시스템 개요
Novellus Systems(NASDAQ: NVLS)은 세계적인 반도체 부품 기업이다

웹사이트: http://www.novellus.com