AKT 7세대 PECVD 장비 ‘올해의 디스플레이 장비’로 선정

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AKT

2005-06-02 11:08

서울--(뉴스와이어)--세계 1위의 LCD장비 업체인 AKT는 자사의 7세대 PECVD제품인 AKT-40K PECVD 시스템이 ‘올해의 디스플레이 장비’(ADY:the Advanced Display of the Year 2005)로 선정되었다고 2일 밝혔다.

ADY 어워드는 평판 패널 디스플레이 부문에서 최고권위를 인정 받는 상으로 세계적으로 가장 큰 평판 디스플레이 부문 박람회인 ‘파인테크 재팬(Finetech Japan)’에서 발표되었다.

LCD 관련 학계, 산업계, 언론계의 전문가로 구성된 11명의 ADY어워드 선정 위원회는 AKT-40K PECVD 시스템의 뛰어난 필름 균일성과 생산성을 선정이유로 밝혔다.

이번에 ADY 어워드를 수상한 AKT-40K 기술의 핵심은 AKT-APXL 공정 챔버 기술에 있다. 이 챔버 기술은 LCD 패널 제조사들이 기판 크기를 7세대 이상으로 확장할 때, 비용효율성을 높이면서도 최적의 공정 균일도를 유지할 수 있도록 설계 되었다. AKT-APXL 챔버를 이용하면, 7세대 기판 전면에 플라즈마 막두께 분포를 10% 이내로 균일하게 분포할 수 있으며 .공정가스의 종류에 관계없이 막증착 속도를 높일 수 있다.

AKT-APXL PECVD 챔버는 1992년 세계최초의 클러스터 방식의 플라즈마 반응기인 AKT-1600 챔버를 1992년 소개한 이래로 가장 획기적으로 개선된 공정 챔버 디자인이다. AKT-APXL 챔버는 AKT의 특허기술인 원격 플라즈마 세정 기술(Remote Plasma Source cleaning technology)을 포함하고 있어 최저 수준까지 챔버의 오염도를 줄이고 챔버의 수명뿐만 아니라 세정주기 또한 획기적으로 개선하였다.

AKT-40K PECVD 시스템은 도핑되거나 도핑되지 않은 비정질 실리콘(a-Si; amorphous silicon), 실리콘산화막(SiOx; silicon oxide), 실리콘질산화막(SiON; silicon oxynitride), 실리콘질화막(SiNx; silicon nitride)의 다양한 단층 또는 다중 필름을 증착 할 수 있다.

디스플레이 관련 마케팅 회사인 디스플레이 서치에 따르면, AKT는 2004년 PECVD 시장에서 시장점유율 1위를 차지했으며 2005년에는 업계 1위의 위치를 더욱 견고히 할 것이라고 평가하였다.