UMC와 수볼타, 28nm 저전력 공정 기술 공동개발 발표

- 모바일 애플리케이션용으로 UMC 의28nm High-K/Metal Gate 공정에 수볼타의 DDC 기술 적용

뉴스 제공

SuVolta

2013-07-23 17:27

LOS GATOS--(뉴스와이어)--UMC와 수볼타는 수볼타의 DDC(Deeply Depleted Channel™) 트랜지스터 기술을 UMC의 28nm High-K 메탈 게이트 (HKMG) 고성능 모바일(HPM) 공정에 적용시키는 공동 기술 개발을 시작했다고 오늘 발표했다.

수볼타와 UMC는 DDC 트랜지스터 기술의 장점을 이용해 누설 전력을 줄이고 SRAM 저전압 동작 성능을 개선 시키기 위해 공동으로 작업하고 있다. 또한 두 회사는 이 공정 기술이 매우 유연성 있는 다음과 같은 채택 방법을 제공해 준다고 발표했다.

- 모든 트랜지스터에 DDC 기술을 적용해 궁극적으로 전력과 성능의 이득을 실현하게 해주는 “DDC PowerShrinkTM 저전력 플래트폼” 옵션

- 기존 설계 데이타 베이스에 일부분의 트랜지스터를 DDC 트랜지스터로 교환하는 “DDC DesignBoost 트랜지스터 교환” 옵션. 이 옵션의 전형적인 응용은 누설전류를 줄이기 위해 누설 전류가 많은 기존의 트랜지스터를 DDC 트랜지스터로 교환하거나 SRAM bitcell 트랜지스터를 DDC 트랜지스터로 교환하여 SRAM 성능을 개선시키고 최소 동작 전원전압(Vmin)을 낮추게 함

UMC의 선진기술 개발 디비젼 담당인 T.R. Yew 부사장은 “몇 주 혹은 몇 달에 걸쳐 UMC의 28nm HKMG 공정에 DDC 기술의 전력 감소 및 성능 개선 효과를 검증시켜 주는 희망적인 결과가 수볼타와의 공동 기술 개발에서 나올 것을 예상하고 있다”며 “수볼타의 선진 기술을 우리 HKMG 공정에 적용함으로써 기존 UMC 의 Poly-SiON 과 HKMG 기술을 보완하기 위한 28nm 모바일 컴퓨팅 공정 플래트폼을 개발하고자 한다”고 말했다.

수볼타의 사장 겸 대표이사인 브루스 맥윌리엄스 박사는 “UMC와 수볼타 팀은 DDC 기술을 UMC 의 28nm HKMG 공정에 포함시키기 위해 그동안 상당한 개발 진척을 이루어 왔다. 우리는 UMC고객의 설계를 쉽게 포팅하기위한 공정을 공동으로 개발하고 있다”며 “또한 수볼타는 업계에 비싸고 기술적으로 도전적인 공정 기술에 대비해 대신 선택할 수 있는 옵션을 제공 함으로써 모바일 디바이스의 미래 세대을 발전 시키는데 기여 하고 있다”고 말했다.

UMC 소개

UMC는 IC 업계의 모든 주요 분야에 걸친 다양한 애플리케이션을 위한 선진 기술과 제조 공정을 제공하는 선두적인 글로벌 반도체 파운드리이다. UMC의 탄탄한 파운드리 솔루션은 28nm poly-SiON, 게이트 라스트High-K/Metal-gate 기술, Mixed signal / RF CMOS, 그리고 광범위한 특수 기술 등을 포함한 최첨단 공정들을 칩 설계자들이 유용하게 이용할 수 있게 해준다.

영산제품은 두 개의 300mm 팹 (대만의 Fab 12A 와 싱가포르 기반의 Fab 12i) 을 포함한10개의 웨이퍼 제조 설비를 이용해 지원된다. Fab 12A는 28nm 까지의 고객 제품에 대한 양산을 지원 하는 Phase 1-4 로 이루어져 있고, 현재 Phase 5&6 에 대한 건설이 진행되고 있으며, Phase 7&8 에 대한 미래 계획도 가지고 있다. UMC는 전 세계적으로 15,000 이상의 직원을 고용하고 있으며 대만, 중국본토, 유럽, 일본, 한국, 싱가포르, 미국에 사무실을 두고 있다. 보다 자세한 정보는 www.umc.com에서 확인할 수 있다.

수볼타 소개

수볼타(SuVolta, Inc.)는 저전력 고성능 IC칩 개발에 필요한 스케일이 가능한 반도체 기술을 개발하고 라이선스한다. 실리콘밸리에 본사를 두고 있으며, 세계 유수의 엔지니어 및 과학자들과 함께 반도체 산업의 발전에 기여하고 있는 오랜 기술 개발의 역사와 혁신을 자랑한다. 수볼타는 대표적인 벤처 캐피털 기업인 KPCB (Kleiner Perkins Caufield & Byers), August Capital, NEA, Bright Capital, Northgate Capital 및 DAG 벤처로부터 자금을 지원받고 있다. 보다 자세한 정보는 www.suvolta.com에서 확인할 수 있다.

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