기가포톤, EUV 파일럿 광원으로 특허 기술 ‘자기장 Debris Mitigation’에 의한 집광 미러 수명연장에 성공
양산 공장 대응 EUV 리소그래피 파일럿 광원으로 신기술 ‘자기장 Debris Mitigation’에 의한 집광 미러 수명연장 효과를 실증, 난관 해소를 향한 커다란 전진
EUV 광원 장치의 경우는 고휘도의 EUV 플라스마에서 발생하는 빛을 집광하여 노광 장치로 전송하는 집광 미러가 반드시 필요하다. 고출력 운전 시에는 이 미러가 발광 시의 타깃인 주석에 오염되기 때문에 집광 미러의 사용 기간이 너무 짧아 실용화에 커다란 장애였다. 이번에 기가포톤은 특허 등록이 완료된 기술인 자기장을 사용한 Debris Mitigation 기술을 100W 레벨의 운전에서 양산 공장 대응 EUV 리소그래피용 파일럿 광원에 탑재한 실험을 통해 집광 미러의 수명연장 효과(반사율 저하율：0.5%/10억 펄스 이하)를 확인했다. 이 데이터는 종래의 연속 운전에서 몇 주간이 한계였던 집광 미러의 사용시간을 연장할 수 있는 가능성을 시사한다.
기가포톤 대표이사 부사장 겸 CTO인 미조구치 하카루 씨는 “최첨단 반도체 양산 설비에서의 가동을 상정한 파일럿 광원으로 자기장 Debris Mitigation 기술의 유효성이 실증됨으로 인해 기술의 심각한 난관을 해소하여 EUV 광원이 시장 도입에 성큼 다가서게 되었다. 기가포톤은 앞으로도 EUV 광원의 개발을 통해 반도체 산업 발전 및 IoT 사회 실현에 기여해 나가고자 한다”고 말했다.
(*) 기가포톤이 EUV 리소그래피 양산 공장 대응 사양으로 설계한 광원. 별칭 ‘고출력 실증기’
자세한 내용은 미국 캘리포니아주 새너제이에서 2월 26일(미국시간)부터 3월 2일까지 개최되는 ‘첨단 노광 국제 심포지엄(SPIE Advanced Lithography 2017)’에서 발표할 예정이다. http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography
기가포톤(Gigaphoton) 개요
기가포톤은 2000년 설립이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치있는 솔루션을 제공해왔다. 특허를 취득한 기가포톤의 혁신적인 기술인 LPP EUV 솔루션은 비용대비 효과 및 생산성이 뛰어난 양산용 EUV 스캐너를 만들기 위해 선도적인 역할을 해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.
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