기가포톤, 신형 ArF 드라이 리소그래피용 광원 ‘GT45A’ 8월 출하
최첨단 ArF 액침용 광원 기술을 도입, 사용자의 새로운 요구에 부응
최첨단 반도체 제조 프로세스에서는 테크놀로지 노드 10/7nm(나노미터)라는 미세한 프로세스가 주류가 되어 앞으로도 EUV 광원 도입에 의한 7nm 이하의 진일보한 미세화가 주목받고 있다. 그런 한편 IoT의 보급에 따라 주로 14~65nm와 같은 기술적으로 성숙한 노드에서 수요가 높아져 신규 투자에 의한 생산 능력의 확대 및 기존 공장의 업그레이드를 통해 대응할 것으로 기대되고 있다. 따라서 드라이 노광 장치의 추가적인 개선이 요구되고 노광 장치의 고생산성과 높은 가동률(Availability)이 필수 불가결하다.
GT45A는 이미 생산 현장에서 도입 실적이 있는 다음과 같은 ArF 액침용 광원 기술을 적용시킴으로써 사용자의 폭넓은 기대에 부응하는 기능 확장성을 갖추고 있다.
· 주요 모듈의 수명을 기존 제품 대비 최대 50% 향상시키고, 광원의 더욱 높은 가동을 실현하여 장치 가동률을 향상시킬 수 있다.
· 최대 90W까지 고출력화 함으로써 한층 더 생산성 향상이 가능하다.
· 4kHz~6kHz의 반복 주파수를 대응 가능하게 함으로써 노광기의 요구에 폭넓게 대응하여 노광 광학 성능의 향상에 공헌한다.
기가포톤 대표이사 사장 겸 CEO인 우라나카 카츠미는 “GT45A는 ArF 액침용 광원의 개발을 통해 축적하고 실현해 온 기술을 적용함으로써 고객의 폭넓은 요구에 대해 최첨단 기술을 활용한 최적의 솔루션을 제공할 수 있게 된다”며 “기가포톤은 앞으로도 계속해서 고객의 요구에 부응하는 최적의 기능을 제공하여 반도체 제조업계에 더욱더 공헌해 나겠다”고 밝혔다.
기가포톤(Gigaphoton) 개요
기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 항상 사용자의 시각을 반영한 세계 최고 수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.
웹사이트: http://www.gigaphoton.com/?lang=en
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