Advanced Energy, SEMICON WEST 2020서 3가지 새 프로세스 파워 제품 출시
혁신적인 플라즈마 프로세스 파워 시스템 발표, 선도적인 전자식 매치(Solid State Match)와 RF 제너레이터 및 매치 통합된 새로운 제품 확장
피터 길레스피(Peter Gillespie) Advanced Energy의 반도체 총괄 부사장은 “반도체 제조업은 4차 산업혁명이 일어나면서 성장하고 있고 빠르게 변화하고 있다. AE는 더 작은 제품, 더 빠른 프로세스, 더 정밀한 제어 및 더 낮은 소유 비용을 지원하는 파워 솔루션을 선도하고 있다. 이 솔루션을 통해 당사 고객은 데이터 경제성을 높이는 칩을 제작할 수 있다”며 “예전에는 공정 중요도가 낮았던 프로세스 파워가 이제는 웨이퍼 처리에 있어 중요한 핵심 요소로서 점점 더 인식되고 있다. 당사는 AE의 Artesyn Embedded Power 제품 포트폴리오와 함께 공정용 파워 제품 플랫폼을 처음으로 선보일 뿐만 아니라 프로세스에 파워를 공급하는 제품을 공유하기를 기대한다”고 말했다.
AE는 플라즈마 프로세스의 전력 공급 방식을 바꾸는 중요한 새 시스템 솔루션을 출시한다:
eVoS™ LE: AE는 완전히 새로운 비정현 플라즈마 전력 기술인 eVoS 플랫폼을 출시했다. 이를 통해 5nm 이하의 첨단 장치 기능을 만드는 데 사용되는 고급 에칭 및 증착 프로세스에 점점 더 중요한 이온 에너지를 정밀하게 제어할 수 있도록 한다. 복잡한 다주파수 시스템을 사용하는 기존의 정현 RF 바이어스 플라즈마 파워에 대한 대안을 제공하는 eVoS는 단일 솔루션에서 맞춤형 좁은 이온 에너지 분포를 만들 수 있도록 설계됐다. AE의 솔루션은 이온 에너지 분포를 보다 직접적으로 제어하고, 기존 솔루션보다 더 나은 바이어스 전력 효율을 제공하며, 점점 더 까다로운 3D IC 기능을 만드는 데 필요한 모든 이점을 제공한다. eVoS LE(저 에너지)는 원자층 에칭(ALE), 에칭, 세정, 증착 및 원자층 증착(ALD)과 같은 중요한 플라스마 기반 애플리케이션에 대해 정밀한 전력 제어를 제공한다.
Navigator® II FCi: AE는 업계 최고의 Navigator II 임피던스 매칭 네트워크 플랫폼의 성공을 기반으로 표준 매칭 네트워크 제품에 비해 가치, 속도 및 튜닝 범위를 개선하는 새로운 빨라진 Solid-State 매칭 네트워크인 Navigator II FCi를 출시한다. Navigator II FCi는 고속 PIN 다이오드 기술을 기반으로 AE의 출시 첫 번째 Navigator II FastCap™ Solid-State 매치를 보완해 전력 및 임피던스 범위를 넓히고 응답 시간을 밀리초 미만으로 단축한다. 움직이는 부품이 없는 Navigator II FCi의 안정성과 재현성은 기존의 진공 캐패시터 매치와 비교하여 뛰어나다. Navigator II FCi는 새로운 시장 요구 사항을 충족시키기 위해 광범위한 애플리케이션을 지원하도록 확장된 기능을 갖춘 고급 ALE 애플리케이션을 지원할 수 있다. Navigator II FCi 고속 PIN 다이오드 기술은 매치 및 제너레이터의 통합형 RF 전력 공급 시스템인 Parameter HFi에서도 사용할 수 있다.
Paramount® HFi: 고성능, 저비용 통합 RF 전력 시스템인 Parameter HFi는 작은 설치 공간 및 현재의 첨단 증착 툴의 엄격한 요구 사항을 충족시키는 장점을 가지고 있다. AE는 2000년 Apex 제품으로 업계 최초의 상용 가능한 완전 매치와 제너레이터가 통합된 시스템을 개발했다. 4개의 개별 튜닝 범위 위치 사이를 전환할 수 있는 Apex는 증착용 RF 파워로 사용되고 있다. 새로운 Paramount HFi는 32개 튜닝 범위 위치, 업그레이드된 완전 디지털 제어 시스템 및 새로운 VI(RF 계측) 센서로 이 개념을 크게 확장한다. 이러한 새로운 기능과 확장된 동작 영역뿐만 아니라, Paramount HFi는 고급 프로세스 제어, 높은 반복성, 클러스터 구성 및 고급 통신 프로토콜(EtherCAT)의 여러 시스템을 동기화하기 위한 CEX(Common Exciter)모드를 제공한다. Paramount HFi의 컴팩트한 사이즈, 밀리 초 응답 시간 및 높은 안정성은 현재의 짧은 증착 공정 단계에 이상적이며, 속도 및 안정성이 고급 NAND 및 기타 높은 반복 스택 장치를 처리하는 데 중요한 요소로 점점 더 중요해지는 곳에 이상적이다.
자세한 기술 사양은 www.advancedenergy.com 에서 확인할 수 있다.
Advanced Energy 개요
Advanced Energy(나스닥: AEIS)는 임무 수행에 필수적인 적용 및 프로세스를 위해 고도로 설계된 정밀 전력 변환, 측정 및 제어 솔루션의 설계 및 제조 분야의 글로벌 리더다. AE의 전력 솔루션을 사용하면 반도체 장비, 산업, 제조, 통신, 데이터 센터 컴퓨팅 서버 스토리지 및 건강 관리를 비롯한 광범위한 산업의 복잡한 적용에서 고객 혁신을 실현할 수 있다. 전 세계 엔지니어링 노하우 및 대응력 있는 서비스 및 지원을 통해 당사는 기술 발전을 충족하고 고객을 위한 성장을 촉진하고 전력의 미래를 혁신하기 위해 협력적인 파트너십을 구축한다. Advanced Energy는 전 세계 고객을 위해 30년 이상 전력을 공급해 왔으며 미국 콜로라도주 포트 콜린스에 본사를 두고 있다. 더욱 상세한 정보는 홈페이지에서 확인할 수 있다. Advanced Energy | 정밀성. 전력. 성능.
웹사이트: http://www.advanced-energy.com
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