프랙틸리아, EUV 패턴 제어 및 수율의 더 나은 향상 위해 스토캐스틱 제어 솔루션에 오버레이 분석 기능 추가
프랙틸리아 오버레이 패키지, 반도체업계 수십 여 선도 기업들이 채택하고 있는 프랙틸리아 MetroLER™ 및 FAME™ 제품의 옵션 기능으로 제공
프랙틸리아는 오버레이 패키지는 피처들 간의 SEM 오버레이를 분석하고 오버레이 분포, 웨이퍼 간 변형 등을 계산한다
반도체 제조에서 오버레이는 패터닝이 이뤄진 각 레이어를 이전 단계 레이어 위에 정확히 포개 놓음으로써 디바이스가 전기적 접속이 잘 이뤄지고 제대로 동작하게 하는 것을 말한다. 기존에는 칩 제조사들이 광학 기반의 측정 장비들을 사용해 이러한 패턴 오버레이를 분석 및 제어해 왔는데, 이 공정은 높은 수율로 고성능 반도체 디바이스를 생산하는 데 있어서 필수적이다. 이러한 분석은 디바이스 자체에서보다는 스크라이브 라인(scribe line)에서 특정 표적에 대해 이뤄진다. 칩의 회로 선폭이 계속해서 축소되고, EUV 패터닝 도입으로 스토캐스틱 변이가 증가함에 따라 스크라이브 라인에서 분석되는 것과 디바이스에서 실제로 일어나는 것 사이에 차이가 점점 더 벌어지고 있다. 그 결과, 광학 장비에 비해 해상도와 정밀도가 더 높은 SEM 장비를 활용해 오버레이를 분석하는 방식에 대한 관심이 높아지고 있다. 하지만 SEM은 SEM 이미지에 노이즈가 생기는데, 이 노이즈를 웨이퍼 상의 스토캐스틱 변동성으로 오인하기 쉽다.
프랙틸리아의 크리스 맥(Chris Mack) CTO는 “첨단 패터닝 공정 제어를 향상시키기 위해 SEM 기반의 오버레이 분석이 점점 더 많이 사용되고 있지만, 이 방법 역시 다른 스토캐스틱 분석 방법들과 마찬가지로 시스템 차원의 임의적 SEM 오차의 영향을 받는다”며 “프랙틸리아는 우리의 입증된 FILM 기술을 통해 SEM 노이즈를 분석 및 제거하는 데 있어서 독보적인 입지를 갖추고 있으며, 그 결과 많은 고객들이 우리의 기술을 활용해 자신들의 SEM 오버레이 분석 정확도를 향상시키기 위해서 프랙틸리아를 찾고 있다. 프랙틸리아 오버레이 패키지를 통해 SEM 스토캐스틱 분석과 광학 오버레이 분석을 결합하면 SEM 오버레이 분석 정확도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 더 나은 랏 배치(Lot dispositioning) 및 보정값을 구할 수 있어 궁극적으로 패터닝 제어를 향상시키고 NZO(non-zero offset), 다시 말해 스토캐스틱 변이를 낮출 수 있을 것으로 확신한다”고 말했다.
‘비편향’ 측정으로 웨이퍼를 보다 완전하고 정확하게 파악
프랙틸리아의 FAME 솔루션 포트폴리오는 고유의 물리학 기반 SEM 모델링 및 데이터 분석 접근법을 사용해서 SEM 이미지로부터 시스템 차원의 임의적 오차를 분석 및 제거하고, 이미지 상에 보이는 것이 아니라 실제 웨이퍼 상에 일어나고 있는 것을 정확히 측정하도록 한다. FAME은 라인 에지 거칠기(LER)/라인폭 거칠기(LWR), 국소적 CD 균일성(LCDU), 국소적 에지 배치 오류(LEPE), 그리고 스토캐스틱 결함 같은 모든 주요 스토캐스틱 효과를 동시에 측정할 뿐 아니라 임계선폭(CD) 분석도 제공한다. 이는 업계에서 신호대 잡음비(SNR)가 가장 높은 에지 검출을 자랑하며(경쟁 솔루션 대비 최대 5배 더 높은 SNR), 각각의 SEM 이미지로부터 30배 이상 더 많은 데이터를 추출한다.
새로운 프랙틸리아 오버레이 패키지를 통해 프랙틸리아는 기존의 분석 성능에 더해서 고도로 정확한 SEM 기반 오버레이 분석(스토캐스틱 특성 분석 포함)을 추가하게 됐다. 프랙틸리아의 제품은 선도적인 주요 반도체 제조사, 장비 회사, 소재 공급회사, 연구 기관 등 반도체 업계 수십 여 기업들이 채택하고 있다.
추가 정보
프랙틸리아 오버레이 패키지에 관한 자세한 정보는 프랙틸리아 웹사이트에서 확인할 수 있다. 프랙틸리아 아카데미에서는 기술에 대한 개요와 함께 스토캐스틱 분석 및 제어를 위한 프랙틸리아 솔루션을 소개하는 최신 콘퍼런스 자료 및 기술 논문을 볼 수 있다.
프랙틸리아 소개
프랙틸리아(Fractilia)는 첨단 반도체 제조에 사용되는 스토캐스틱(stochastic) 측정 및 제어 솔루션의 선도적 기업이다. 프랙틸리아의 특허 기술인 FILM™(Fractilia Inverse Linescan Model)은 첨단 노드에서 패터닝 오류의 주된 요인인 스토캐스틱을 고도로 정확하고 정밀하게 측정한다. 이에 따라 디바이스 수율과 성능뿐 아니라 패터닝 생산성을 향상시킬 수 있다. 세계 5대 칩 제조사 중 4개 회사가 프랙틸리아 제품을 사용해 공정을 최적화하고 있다. 프랙틸리아 솔루션은 공정 개발 및 엔지니어링 분석을 위한 MetroLER™ 제품과 팹 생산 착수 및 양산 애플리케이션을 위한 FAME™(Fractilia Automated Measurement Environment) 제품을 포함한다. 프랙틸리아는 미국 텍사스주 오스틴에 본사를 두고 있으며, FILM 및 관련 기술들로 다수의 특허와 영업 비밀을 보유하고 있다. 자세한 정보는 웹사이트를 참조하면 된다.
프랙틸리아 오버레이 패키지: https://www.fractilia.com/manufacturing
프랙틸리아 아카데미: https://www.fractilia.com/public-academy
웹사이트: https://www.fractilia.com
연락처
프랙틸리아 홍보대행
페리엔
박윤희 실장
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