마이크로닉, 아시아 최대의 반도체 회사로부터 시그마 7500 레이저 패턴 생성기 최초 수주
마이크로닉의 스벤 로프퀴스트 (Sven Lofquist) 대표이사 및 CEO는 “이번 시그마7500 수주는 2005년에 시작된 상호 기술 협력 결과”라며 “아시아 업체는 성공적인 기술 평가 후 시그마 7500 모델을 구매하기로 결정했다”고 말했다.
스벤 로프퀴스트 CEO는 또한 “마이크로닉은 업계 최대의 패턴 생성기 제조업체”라며 “업계에서 우리의 시그마 기술이 인정됨에 따라 첨단 반도체 포토 마스크 제조용 패턴 생성기 분야의 선도적인 업체로서 입지를 더욱 강화하고 있다”고 강조했다.
시그마 7500은 시그마 7300과 동일한 플랫폼을 사용하며, 고품질의 포토마스크용으로 정확도와 생산성을 향상시킨 제품이다. 이와 같은 향상된 성능으로 90, 65,45 나노 미터 노드에 기반한 위상반전 마스크 (phase shift mask; PSM)와 바이너리(Binary) 마스크 분야로 응용범위가 확대된다.
시그마 7500은 또한 더욱 세밀한 노드에서 높은 해상도와 정확도를 요하는 시장 흐름에 부응하며 전자 빔 방식 (E-Beam)의 패턴 생성기 보다 훨씬 높은 생산성을 자랑한다. 뿐만 아니라 마스크 생산 라인에서 비용 및 회송시간 (turn-around time)을 절감하여 반도체 개발 시 비용과 사이클 시간을 단축시킨다.
248nm 파장의 엑시마 레이저 이외에도 마이크로닉의 독점 기술인 공간 광변조기 (SLM: Spatial Light Modulator) 기술은 해상도와 생산성을 증대시킨다. SLM 기술로 한꺼번에 대량의 비트맵 이미지 생성이 가능해졌고, 이로 인해 OPC (Optical Proximity Correction, 광학식 근접 보정) 사용 유무 및 패턴의 조밀도와 상관없이 2~3시간 정도의 노광시간이 가능하다.
이 보도자료는 마이크로닉레이저시스템코리아가(이) 작성해 뉴스와이어 서비스를 통해 배포한 뉴스입니다.
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2007년 10월 19일 16:48
