큐셉 테크놀로지, 전세계 주요 컨퍼런스 통해 NVD 검사장비의 반도체 수율 및 팹 수익성 극대화 이점 발표
- 2012년 1분기 글로벌 주요 컨퍼런스에서 NVD 검사의 혁신성 선보일 예정
큐셉은 2012년 1분기 동안 다음의 주요 컨퍼런스에 참여한다.
세미콘 코리아(SEMICON Korea) 계측 검사 포럼 / 2012년 2월 7일 서울 COEX
세미콘 코리아 계측 검사 포럼에서 큐셉 테크놀로지의 공정 및 수율 기술 선임인 조성진(Sungjin, Jason Cho) 박사는 고급 공정 제어와 수율 엔지니어링 실현을 위해 유발된 잔류전압(process-induced charging)과 서브모노레이어(sub-monolayer) 유기 및 금속 잔여물과 같은 수율을 제한하는 NVD 관련 검사 솔루션에 대해 발표할 예정이다. 조박사의 발표는 2월 7일 오후 4시에 시작되는 세션 2에서 진행될 예정이다.
19회 한국반도체학술대회(Korean Conference on Semiconductors) / 2012년 2월 15-17일 서울 고려대학교
제 19회 한국반도체학술대회(KCS)에서 큐셉의 조성진 박사는 최근 부상하고 있는 NVD의 개괄적 내용과 더불어 반도체 팹들의 수율 증대를 위한 NVD 검사 활용 사례들을 소개할 예정이다. 조박사의 발표는 2월 17일 오후 3시 30분에 진행될 예정이다.
세마텍 표면처리 및 세정 컨퍼런스(SEMATECH Surface Preparation and Cleaning Conference) / 2012년 3월 19-21일 텍사스 오스틴
세마텍 SPCC 컨퍼런스에서 큐셉과 삼성전자는 ADI(After Develop Inspection) 단계에서 발생하여 ACI ACI(After Clean Inspection) 과정에서 물리적 점식 결함(pitting defects)을 초래하는 전하 NVD의 영향에 대한 공동논문을 발표할 예정이다. 전하 NVD는 어드밴스드 노드 게이트 산화 모듈에서 물리적 결함과 최종적으로 영향을 받은 디바이스의 수율을 예측할 수 있는 선행지표 역할을 한다.
큐셉 개요
큐셉 테크놀로지는 첨단 반도체 제조에서 NVD 검출을 위한 웨이퍼 검사 솔루션을 제공한다. 큐셉의 ChemetriQ 플랫폼은 저농도의 유기 및 금속 잔여물 공정 후 잔류전압 및 기타 표면의 부분적 잔류 물질 등 기존의 광학 검사 장비로 검출하기 어려운 NVD의 인라인, 비접촉 및 풀웨이퍼 검사를 위해 중요한 공정에 이용되고 있다. 상세 정보는 www.qceptech.com을 참조하면 된다.
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페리엔
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