기가포톤, “네온가스 공급위기 구조 프로그램” 발표
- 기가포톤, 네온가스 공급위기 해결을 위한 종합 패키지 개발
네온은 반도체 제조를 위해 레이저에 사용되는 아르곤(AR) 및 크립톤(Kr) 가스를 위한 완충가스로 사용된다. 우크라이나는 오늘날 네온 가스의 주요 생산국이지만 국가의 지속적인 위기로 인해 공급감소가 문제가 되었고 우려가 점차 증대되고 있다. 이는 가격상승이 원인이며 2015년에는 공급이 부족한 지경까지 악화되었다(*2). 이로 인해 세계 네온가스의 주요 소비주체인 반도체 산업에 중대한 상황이 발생하고 있다.
이 위기에 대처하기 위해 기가포톤은 이미 2011년 11월 모든 신규 및 기존 GT시리즈 ArF 액침레이저에 대해 eTGM 기술을 한시적으로 무료제공 하겠다고 발표했다. “네온가스 공급위기 구조 프로그램”은 다음을 포함하여 보다 포괄적인 패키지를 확장 지원한다.
1. 고객이 요청한 신규 가스 공급업체의 신속한 자격 취득 프로그램. 이전에는 신규 가스 공급업체의 시험 및 자격취득에 6~12개월이 소요되었지만 이 새로운 프로그램으로 인해 고객은 1개월이라는 빠른 시간 안에 신규 가스공급업체를 이용할 수 있다.
2. 한시적으로 무료 제공되는 기가포톤의 eTGM 기술은 또한 G41K 시리즈의 KrF 레이저와 GT40A 시리즈의 ArF 레이저로 확장될 예정이다. 이 확장 제공은 2015년 11월에 시작된다. eTGM을 도입함으로써 고객은 KrF과 ArF 레이저에서 네온 사용량을 25 % 줄일 수 있으며, ArF 액침 레이저의 경우 50 %까지 줄일 수 있다.
3. 기가포톤의 최신 가스 재활용기술 hTGM의 도입 가속화. 이 기술은 모든 레이저 유형에 적용 가능하다. hTGM은 2016년 출시될 예정이다. hTGM 기술을 실행함으로써 고객은 가스 소비량의 50 %까지 재활용 할 수 있게 된다.
토마루 히토시(Hitoshi Tomaru) 기가포톤 사장 겸 최고경영자(CEO)는 “네온은 반도체 제조를 위한 필수불가결한 가스이며 우리는 이러한 상황하에서 지속되는 공급 위기가 생산의 연속성을 위협하는 매우 심각한 문제임을 인식하고 있다”며 “기가포톤은 고객을 위한 안정적인 생산을 지원하기 위하여 가스 공급 업체의 신속한 자격취득과 가스사용량의 상당한 감소 그리고 가스 재활용 기술의 조기 도입이라는 세 가지를 핵심으로 가능한 모든 노력을 다 할 것이다”고 말했다.
(*1) 네온가스 공급문제가 해결 됐다고 기가포톤이 확정할 때까지 무료제공 기간은 계속될 예정이다. 이 보도 자료에 포함 된 정보는 발표시간 이전에 가능했던 것을 기반으로 하며 사전 통보 없이 변경 될 수 있다.
(*2) 기가포톤이 수행한 연구 기준
eTGM 관련 이전 보도자료(http://goo.gl/bhHcj6)
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