기가포톤, SPIE 고급 리솔로지 패터닝 2023에서 기술 솔루션 공개

반도체 리소그래피 기술에 관한 최대 규모의 콘퍼런스에서 논문 발표 예정

오야마, 일본--(Business Wire / 뉴스와이어)--반도체 리소그래피용 광원 제조업체인 기가포톤(Gigaphoton Inc.)(본사: 도치기현 오야마; 사장 겸 최고경영자: 우라나카 가쓰미(Katsumi Uranaka))은 2023년 2월 26일 일요일부터 3월 2일 목요일 PST까지 캘리포니아 산호세에서 개최되는 SPIE 고급 리소그래피 + 패터닝 2023(SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023)에 참가한다.

기가포톤은 DUV 광원 기술을 통한 수율 향상 및 지속 가능성 솔루션에 대한 최신 기술을 소개한다. 또한 기가포톤은 EUV 광원에 대한 연구 개발의 진행 상황을 발표할 예정이다.

* 논문 인용을 원할 경우, 문의 요망.

구두 프레젠테이션:
1) 최첨단 침지 광원으로 EPE와 가용성을 동시에 향상 [논문 번호: 12494-44]
2) 반도체 제조용 LPP-EUV 소스의 플라즈마 역학 및 미래 [논문 번호: 12494-45]

논문:
3) LPP-EUV 광원용 핵심 부품 개발 진전 현황 [논문 번호: 12494-51]
4) 엔지니어링 유지보수 결정을 위한 기계 학습 기반 엑시머 레이저 성능 시뮬레이터 개발 [논문 번호: 12496-101]
5) 지속 가능성에 기여를 통해 ArF 침지 리소그래피용 최신 광원 GT66A로 가용성 극대화 [논문 번호: 12494-60]

기가포톤 소개

기가포톤은 2000년 설립 이후 광원 제조업체로서 전 세계 반도체 제조업체에 가치 있는 솔루션을 제공해 왔다. 기가포톤은 R&D에서 제조, 판매 및 유지 관리 서비스에 이르기까지 모든 단계에서 일상 사용자의 관점으로 세계적 수준의 지원을 제공하기 위해 최선을 다한다. 웹 페이지: https://www.gigaphoton.com/

본 보도자료는 해당 기업에서 원하는 언어로 작성한 원문을 한국어로 번역한 것이다. 그러므로 번역문의 정확한 사실 확인을 위해서는 원문 대조 절차를 거쳐야 한다. 처음 작성된 원문만이 공식적인 효력을 갖는 발표로 인정되며 모든 법적 책임은 원문에 한해 유효하다.

웹사이트: http://www.gigaphoton.com/?lang=en

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연락처

기가포톤
경영기획부
오오이시 겐지(Kenji Ohishi)
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이메일: web_info@gigaphoton.com