2021년 6월 24일 13:05

KLA, 반도체 칩 수율 및 신뢰성 향상 위한 자동차용 신제품 포트폴리오 출시

KLA가 자동차 반도체 칩 제조를 위한 신제품 4종을 출시한다고 24일 발표했다. 이번에 출시된 제품에는 8935 고생산성 패턴 웨이퍼 검사 시스템, C205 광대역 플라즈마 패턴 웨이퍼 검사 시스템, Surfscan® SP A2/A3 비패턴 웨이퍼 검사 시스템, 그리고 I-PAT® 인라...

2020년 12월 14일 11:15

KLA, 반도체 제조의 난제 해결 위한 새로운 시스템 2종 출시

KLA는 PWG5™ 웨이퍼 기하 구조 계측 시스템과 Surfscan® SP7XP 웨이퍼 결함 검사 시스템의 두 가지 신제품을 발표했다. 이들 새로운 시스템은 최첨단 메모리 및 로직 집적 회로 제조에서 매우 어려운 문제를 해결하도록 설계됐다. 분자 초고층 건물처럼 더 높이 적층...

2020년 9월 22일 13:02

KLA, 첨단 패키징 위한 향상된 시스템 포트폴리오 발표

KLA Corporation(이하 KLA)은 Kronos™ 1190 웨이퍼 패키징 검사 시스템, ICOS™ F160XP 다이 선별 및 검사 시스템 그리고 차세대 ICOS™ T3/T7 시리즈 패키지 집적회로(IC) 부품 검사 및 계측 시스템을 출시한다고 밝혔다. 이 새로운 툴의 향상된 감도 및 처리량과 차...

2020년 7월 31일 10:36

KLA 코리아, 코로나19 구호 활동에 1억원 지원

최첨단 공정 제어 솔루션 제공의 선도업체인 KLA 코리아는 코로나19(COVID-19)로 어려움을 겪는 이웃을 위해 1억원 상당의 구호 기금을 마련해 지원했다고 밝혔다. KLA 코리아 임직원들도 회사가 마련한 매칭 프로그램을 통해 구호 기부에 동참하는 등 이웃과 온정을...

2020년 7월 21일 14:00

KLA, 전자빔 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템 ‘eSL10™’ 개발

KLA Corporation은 혁신적인 eSL10™ 전자빔 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템(e-beam patterned-wafer defect inspection system)을 개발했다고 21일 발표했다. 이 새로운 시스템은 기존 광학 장비나 다른 전자빔 결함 검사 플랫폼으로는 검출할 수 없는 결함을 검출, ...

2020년 2월 26일 13:41

KLA, 새로운 IC 계측 시스템 출시

KLA Corporation(NASDAQ: KLAC)은 집적회로(‘IC’ 또는 ‘칩’) 제조를 위한 Archer™ 750 이미징 기반 오버레이 계측 시스템과 SpectraShape™ 11k 광학 임계치수(Critical Dimension, ‘CD’)를 선보였다. Archer 750은 칩의 각 레이어가 구성됨에 따라 패턴 형상이 이전 ...

2019년 7월 11일 14:54

KLA, 신규 결함 검사 및 리뷰 포트폴리오 발표

KLA 코퍼레이션은 D32 및 D8 광학 결함 검사 시스템과 eDR7380™ 전자빔 결함 리뷰 시스템을 발표했다. 신규 검사 시스템은 당사의 주력 제품인 패턴 웨이퍼 플랫폼의 확장으로 광학 검사를 정의하는 요소인 속도와 감도에서 향상을 이루었다. 신규 전자빔 리뷰 시스...

2019년 1월 24일 10:26

KLA-Tencor, KLA로 사명 변경

최첨단 공정 제어 솔루션 제공의 선도업체인 KLA-Tencor Corporation은 사명을 KLA Corporation(이하 KLA)으로 변경한다고 발표했다. 사명 변경과 함께 KLA는 세계를 향한 기술적 영향력에 대한 낙관적인 전망을 담아 ‘Keep Looking Ahead™’를 새로운 태그라인으로 ...

2017년 10월 23일 10:44

KLA-Tencor 코리아, ‘2017 한국 최고의 직장’ 본상 수상

반도체 공정제어장비 분야 기업인 KLA-Tencor 코리아는 세계적인 인사조직컨설팅회사인 에이온휴잇(AON Hewitt)이 수여하는 ‘2017 한국 최고의 직장(2017 Best Employers in Korea)’ 본상을 수상했다고 23일 밝혔다. KLA-Tencor 코리아는 이번에 직원몰입도, 고용브...

2017년 3월 17일 10:44

KLA-Tencor, 선도적 첨단 집적회로 장비 기술을 위한 새로운 측정 시스템 발표

KLA-Tencor Corporation(NASDAQ: KLAC)이 10nm 이하 집적회로(IC)의 개발 및 대량 제조를 가능하게 하는 4가지 혁신적 측정 시스템으로 Archer™ 600 오버레이 계측 시스템, WaferSight™ PWG2 패턴 웨이퍼 기하학 측정 시스템, SpectraShape™ 10K 광학적 임계치수(CD)...

2015년 3월 5일 10:15

KLA-Tencor, 새로운 계측 시스템으로 5D™ 패터닝 제어 솔루션의 활용 범위 확대

KLA-Tencor Corporation (NASDAQ: KLAC)은 오늘 Archer™ 500LCM과 SpectraFilm™ LD10이라는 첨단 계측 시스템 2종을 출시했다. 이들 제품은 16nm 이하급 IC의 개발과 생산을 지원한다. Archer 500LCM 오버레이 계측 시스템은 생산 과정의 전 단계에 걸쳐 정확한 오버...

2006년 9월 13일 09:15

KLA-Tencor, 최신 패턴 웨이퍼 검사 시스템 개발

2006년 9월 13일 · KLA-Tencor(KLAC)가 현재 업계에서 널리 사용되고 있는 Puma 제품군의 최신 제품인 Puma 91xx DF(Darkfield) 패턴 웨이퍼 검사 시스템을 개발했다고 발표했다. 여러 치명적인 결함들을 경제적인 비용에 포착하도록 설계된 Puma 91xx 시리즈는 이전...

2006년 5월 12일 16:13

사이머/KLA-텐코, 리소그래피 프로세스 분야 협력

세계적인 반도체 제조용 극자외선(DUV) 엑시머 레이저 광원 공급업체인 사이머(Cymer, Inc.)가 프로세스 제어 및 수율 관리 솔루션 분야의 선도업체인 KLA-텐코(KLA-Tencor)와 기술제휴를 체결했다고 밝혔다. 이번 기술제휴 계약에 따라 Cymer는 KLA-Tencor의 업계 ...

2006년 5월 12일 16:12

KLA-텐코, ADE 인수

KLA-텐코(KLA-Tencor Corporation)와 ADE가 KLA-Tencor 종가 기준으로 약 4억 8천 8백만 달러 가치의 주식 대 주식 거래를 통해 KLA-Tencor가 ADE를 인수하는 내용의 계약을 체결했다고 공동 발표했다. "이번 통합으로 우리는 KLA-Tencor에 대한 업계 인지도를 활용...

2006년 3월 30일 09:28

KLA-Tencor, 최신 광학 CD 측정 시스템 개발

2006년 3월 29일· KLA-Tencor(지사장 홍완철, )가 최신 광학 CD 측정 시스템인 SpectraCD-XT를 선보였다. SpectraCD-XT는 가격대비 성능이 우수한 핵심 디바이스 구조의 인라인(in-line) CD 및 프로파일 측정 솔루션을 제공, 90nm 및 65nm 노드에서 IC 성능 및 수율...

2006년 3월 24일 17:45

KLA-Tencor, 차세대 전자빔 검사 시스템 개발

KLA-Tencor(지사장 홍완철)가 65 및 45nm 노드에서의 트랜지스터 개발을 가속화 할 수 있는 차세대 전자빔(E-Beam) 검사 시스템(제품명: eS32)를 개발, 전자빔 검사 플랫폼을 확장한다고 밝혔다. 다양한 전기적 및 물리적 결함을 검출할 수 있는 eS32를 통해 반도체 ...

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